点击:974丨发布时间:2025-06-07 18:07:38丨关键词:CMA/CNAS/ISO资质,中析研究所,半导体清洗剂的用途及特点_第三方检测机构-中化所检测中心
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参考周期:常规试验7-15工作日,加急试验5个工作日。
因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。
CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。
化学成分检测:
1.硅晶圆清洗剂:用于单晶硅或多晶硅基底,重点检测金属离子去除率和微粒残留
2.光刻胶去除剂:针对DUV或EUV光刻工艺,侧重有机物残留分析和腐蚀性评估
3.金属表面清洗剂:适用于铜或铝互连层,核心检测电化学腐蚀速率和表面钝化
4.真空腔室清洗剂:用于PVD/CVD设备,重点评估低挥发残留和颗粒计数
5.CMP后清洗剂:化学机械抛光后处理,检测浆料残留移除效率和表面张力
6.蚀刻后清洗剂:干法或湿法蚀刻工艺,核心分析化学残留物和兼容性
7.有机溶剂清洗剂:包括IPA或丙酮基溶液,侧重纯度检测和TOC控制
8.水基清洗剂:环保型配方,重点检测COD值和生物降解性
9.蚀刻液清洗剂:用于酸性或碱性蚀刻,评估腐蚀速率和稳定性
10.封装清洗剂:芯片封装阶段,核心测试表面润湿性和残留颗粒
国际标准:
1.电感耦合等离子体质谱仪:Agilent7900型(检出限0.1ppt,质量范围2-260amu)
2.气相色谱-质谱联用仪:ThermoScientificISQ7000型(灵敏度0.1pg,扫描速度20Hz)
3.激光颗粒计数器:ParticleMeasuringSystemsCLS-700型(粒径范围0.1-10μm,分辨率±0.01μm)
4.pH值测量仪:METTLERTOLEDOSevenCompact型(精度±0.01,温度补偿-5°C至100°C)
5.旋转粘度计:BrookfieldDV2T型(量程1-107mPa·s,转速0.01-250rpm)
6.电子分析天平:SartoriusCubisII型(精度0.0001g,最大称量220g)
7.电导率测试仪:HannaInstrumentsHI98192型(范围0-2000μS/cm,精度±0.5%)
8.傅里叶变换红外光谱仪:PerkinElmerSpectrumTwo型(分辨率4cm⁻¹,波长范围7800cm⁻¹至350cm⁻¹)
9.腐蚀测试系统:GamryInterface1010E型(电位范围±10V,温度控制±0.1°C)
10.高效液相色谱仪:WatersAlliancee2695型(流速范围0.001-10mL/min,检测波长190-800nm)
11.总有机碳分析仪:ShimadzuTOC-LCPH型(检出限1ppb,测量时间≤4min)
12.表面张力仪:KrüssK100型(测量范围1-2000mN/m,精度±0.01mN/m)
13.紫外-可见分光光度计:HitachiUH4150型(波长范围190-1100nm,带宽0.1nm)
14.差示扫描量热仪:NetzschDSC214型(温度范围-170°C至700°C,升温速率0.001-100K/min)
15.光学显微镜:OlympusBX53型(放大倍数50-1000x,分辨率
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
实验检测
荣誉资质