半导体清洗剂的用途及特点_第三方检测机构-中化所检测中心

点击:974丨发布时间:2025-06-07 18:07:38丨关键词:CMA/CNAS/ISO资质,中析研究所,半导体清洗剂的用途及特点_第三方检测机构-中化所检测中心

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参考周期:常规试验7-15工作日,加急试验5个工作日。

因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。

检测项目

化学成分检测:

  • 金属离子含量:钠离子≤0.1ppb、钾离子≤0.05ppb(参照SEMIF29)
  • 有机物分析:总有机碳(TOC)<5ppb、甲醛残留浓度≤1ppm
物理性能评估:
  • 密度参数:范围0.8-1.2g/cm³
  • 粘度特性:动态粘度2-50mPa·s
腐蚀性测试:
  • 金属腐蚀速率:铜表面≤0.1μm/h、铝表面≤0.05μm/h
  • 硅晶圆蚀刻率:≤0.01nm/min
残留分析:
  • 表面颗粒计数:≥0.1μm颗粒<100个/cm²
  • 挥发残留物:非挥发性残余≤10ppm
纯度检测:
  • 杂质元素总和:≤10ppb
  • 含水量:卡尔费休法测定≤50ppm
电化学性能:
  • 电导率参数:0.1-100μS/cm
  • 氧化还原电位:范围-100mV至+100mV
环境影响评估:
  • 化学需氧量(COD):≤100mg/L
  • 生物降解率:≥90%
安全性检测:
  • pH值范围:4.0-10.0
  • 闪点测试:闭杯法≥60°C
稳定性分析:
  • 热稳定性指数:40°C下变化率≤1%/月
  • 保质期评估:加速老化试验≥12个月
兼容性测试:
  • 材料兼容性:硅基底无腐蚀、氧化物层无损伤
  • 溶液兼容性:无沉淀或变色现象

检测范围

1.硅晶圆清洗剂:用于单晶硅或多晶硅基底,重点检测金属离子去除率和微粒残留

2.光刻胶去除剂:针对DUV或EUV光刻工艺,侧重有机物残留分析和腐蚀性评估

3.金属表面清洗剂:适用于铜或铝互连层,核心检测电化学腐蚀速率和表面钝化

4.真空腔室清洗剂:用于PVD/CVD设备,重点评估低挥发残留和颗粒计数

5.CMP后清洗剂:化学机械抛光后处理,检测浆料残留移除效率和表面张力

6.蚀刻后清洗剂:干法或湿法蚀刻工艺,核心分析化学残留物和兼容性

7.有机溶剂清洗剂:包括IPA或丙酮基溶液,侧重纯度检测和TOC控制

8.水基清洗剂:环保型配方,重点检测COD值和生物降解性

9.蚀刻液清洗剂:用于酸性或碱性蚀刻,评估腐蚀速率和稳定性

10.封装清洗剂:芯片封装阶段,核心测试表面润湿性和残留颗粒

检测方法

国际标准:

  • SEMIF29-1108清洗剂金属杂质测试方法
  • ASTMD1193-06试剂水规范
  • ISO16264:2002水质-溶解无机阴离子测定
国家标准:
  • GB/T6682-2008分析实验室用水规格
  • GB/T9724-2007化学试剂pH值测定
  • GB/T15435-1995液体化学品密度测定法
(方法差异说明:SEMI标准更侧重半导体专用参数,如超低检出限,而GB标准强调通用实验室精度;国际标准如ASTM指定水质等级,与GB的水质分类存在指标差异)

检测设备

1.电感耦合等离子体质谱仪:Agilent7900型(检出限0.1ppt,质量范围2-260amu)

2.气相色谱-质谱联用仪:ThermoScientificISQ7000型(灵敏度0.1pg,扫描速度20Hz)

3.激光颗粒计数器:ParticleMeasuringSystemsCLS-700型(粒径范围0.1-10μm,分辨率±0.01μm)

4.pH值测量仪:METTLERTOLEDOSevenCompact型(精度±0.01,温度补偿-5°C至100°C)

5.旋转粘度计:BrookfieldDV2T型(量程1-107mPa·s,转速0.01-250rpm)

6.电子分析天平:SartoriusCubisII型(精度0.0001g,最大称量220g)

7.电导率测试仪:HannaInstrumentsHI98192型(范围0-2000μS/cm,精度±0.5%)

8.傅里叶变换红外光谱仪:PerkinElmerSpectrumTwo型(分辨率4cm⁻¹,波长范围7800cm⁻¹至350cm⁻¹)

9.腐蚀测试系统:GamryInterface1010E型(电位范围±10V,温度控制±0.1°C)

10.高效液相色谱仪:WatersAlliancee2695型(流速范围0.001-10mL/min,检测波长190-800nm)

11.总有机碳分析仪:ShimadzuTOC-LCPH型(检出限1ppb,测量时间≤4min)

12.表面张力仪:KrüssK100型(测量范围1-2000mN/m,精度±0.01mN/m)

13.紫外-可见分光光度计:HitachiUH4150型(波长范围190-1100nm,带宽0.1nm)

14.差示扫描量热仪:NetzschDSC214型(温度范围-170°C至700°C,升温速率0.001-100K/min)

15.光学显微镜:OlympusBX53型(放大倍数50-1000x,分辨率

北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。