离子磨削检测

点击:92丨发布时间:2025-04-08 12:46:32丨关键词:CMA/CNAS/ISO资质,中析研究所,离子磨削检测

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参考周期:常规试验7-15工作日,加急试验5个工作日。

因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。

CMA/CNAS等证书详情,因时间等不可抗拒因素会发生变更,请咨询在线工程师。

检测项目

1.表面粗糙度(Ra):测量范围0.01-1.00μm,分辨率0.001μm

2.材料去除率:量化单位时间去除量(μm/min),误差≤3%

3.亚表面损伤深度:检测深度范围50-500nm,采用截面TEM验证

4.边缘崩边尺寸:测量精度0.5μm,适用曲率半径>0.1mm

5.晶格畸变率:通过XRD分析半峰宽变化(FWHM≤0.05)

检测范围

1.半导体材料:硅片(100/111晶向)、碳化硅衬底、GaN外延片

2.光学元件:熔融石英透镜、氟化钙窗口片、红外硫系玻璃

3.金属材料:钛合金(TC4/TA15)、镍基高温合金(Inconel718)

4.陶瓷材料:氧化铝基板(96%/99%纯度)、氮化硅轴承球

5.复合材料:碳纤维增强树脂基(CFRP)航空构件

检测方法

1.ASTME112-13晶粒度测定方法

2.ISO25178-2:2022表面纹理三维表征规范

3.GB/T4340.2-2012金属维氏硬度试验方法

4.ISO14705:2016精细陶瓷界面强度测试标准

5.GB/T3505-2009产品几何技术规范表面结构轮廓法

检测设备

1.ZygoNewView9000:白光干涉三维形貌仪(垂直分辨率0.1nm)

2.FEIHeliosG4UX:双束聚焦离子束显微镜(束流0.8pA-21nA)

3.BrukerD8Discover:高分辨X射线衍射仪(Cu靶Kα辐射)

4.KeyenceVK-X3000:激光共聚焦显微镜(405nm波长)

5.Agilent5500:原子力显微镜(接触模式分辨率0.2nm)

6.MitutoyoSJ-410:接触式轮廓仪(测力0.75mN)

7.ZeissCrossbeam550:场发射扫描电镜(分辨率1nm@15kV)

8.ShimadzuHMV-G21ST:显微硬度计(载荷10gf-2kgf)

9.OlympusLEXTOLS5000:激光扫描显微镜(1200万像素CCD)

10.ThermoFisherScios2:氦离子显微镜(样品台定位精度1μm)

北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。